利用第23太阳周期间GPS/TEC数据统计分析电离层对耀斑响应，首次定量分析了电离层响应的太阳天顶角依赖，统计结果表明天顶角90度地方的TEC增幅约为天顶角0度地方的39%。统计分析了耀斑位置对电离层响应的影响，发现电离层响应的耀斑位置效应随耀斑等级增强变得更显著（如图1），而之前EUV辐射与X射线的统计分析发现EUV辐射有同样的耀斑位置效应，这进一步证实电离层耀斑效应主要由EUV 辐射贡献，而不是X 射线。构建了电离层耀斑响应的统计经验模式，对电离层响应预报的平均误差为33%，耀斑越大，预报越准确。统计结果还表明TEC响应与EUV辐射显著相关，且是非线性相关。
图1. 不同等级耀斑期间ΔTEC与太阳天顶角的关系
该研究结果发表在国际地学期刊Journal of Geophysical Research（Le, H., L. Liu, Y. Chen, and W. Wan (2013), Statistical analysis of ionospheric responses to solar flares in the solar cycle 23, J. Geophys. Res. Space Physics, 118, 576–582, doi:10.1029/2012JA017934.).